I.5 Structure d'une DEL
La figure représente la structure interne d'une DEL[1] orange. Elle est constituée d'un substrat de GaP de type N qui sert de support mécanique à la couche active et assure de bonnes conductivités thermiques et électrique vers l'électrode métallique. Une couche de GaAsxP1-x où varie de 0 à 0,35 réalise l'accord de maille entre le substrat et la couche active. La couche active est réalisée par une jonction PN en GaAs0,35P0,65 dont la région de type P, de quelques mm d'épaisseur constitue la couche de sortie de la DEL[1]. Le contact métallique de sortie doit avoir une surface et une géométrie faisant un compromis entre homogénéité de polarisation et surface émettrice suffisante.
