II.3 Recombinaison directe électron - trou
Considérons un matériau semi-conducteur de type N (). A l'équilibre thermodynamique, ce matériau est caractérisé par des densités de porteurs qui valent respectivement n¯ et p¯ et une égalité entre génération thermique et recombinaison: r = 0.
Supposons qu'à l'instant t = t0, on soumette ce matériau à un flux lumineux d'intensité constante φ constante tel que l'énergie qu'il transporte soit supérieure à la largeur de la bande interdite
E = hν> EG. Ce flux va générer des paires électrons-trous. Or, la vitesse de recombinaison est proportionnelle aux densités de porteurs dans les bandes
(un électron se recombinant avec un trou).
On peut donc écrire : rn' = rp'= A.p.n (A est une constante de proportionnalité)
Le taux de recombinaisons s'écrit donc : rn = rp = A.p.n - gth
À l'équilibre, on peut écrire :
Donc : et et
Donc : donc :
avec τ = durée de vie des porteurs en excès
τ(s) n'est pas spécifique du matériau car dépend de l'excitation.
Fondamental :
Pour un matériau dopé en régime de faible injection, la formule précédente devient :
La constante A dépend du matériau et vaut 10-10 pour le silicium.